【时讯科普】什么是曝光设备？曝光设备如何应用？

什么是曝光设备？

光刻设备用于半导体和液晶显示器的制造现场，通过照射光在基板上绘制电路和像素等图案。

除了使用极强的光线外，还需要对舞台等进行精确的控制，因此很多产品体积庞大，成本动辄上亿。

曝光工艺是非常重要的设备，因为它决定了半导体和液晶显示器制造中设计数据（ CAD数据）的图案。

不同的公司已经开发了各种曝光方法并应用于设备中。

曝光设备的使用

曝光设备主要用于半导体制造现场和包括液晶显示器在内的平板显示器(FPD)制造现场。

在半导体制造工艺中，以硅晶片为基板，形成氧化膜等后，涂敷光致抗蚀剂（感光材料），通过曝光装置向涂敷面照射强紫外光。

由此，能够通过蚀刻等除去不需要的部分。这种使用曝光设备的方法称为光刻法。

在LCD制造过程中，一般采用玻璃基板，并重复金属薄膜沉积、光刻和蚀刻的多个循环。

滤色器可以通过将像素电极和开关元件(TFT元件等)布置在一个基板上并且将三基色光(红、绿和蓝)布置在另一基板上来形成。

通过将两个基板粘合在一起并在它们之间放置液晶材料，就完成了液晶显示器的面板。

选择曝光设备时，有必要在购买前与设备制造商充分讨论曝光所用光源的类型和精度、载物台的精度等，因为它们非常昂贵。